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纳米硅复合负极材料研磨分散机  招商

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产品说明
型号 CMSD
搅拌机类型 多功能搅拌机
物料类型 固-液
适用物料 其他
动力类型 电动
布局形式 立式
搅拌方式 强制式搅拌
每次处理量范围 出料300-500L
应用领域 化工
作业方式 循环作业式
搅拌鼓形状 圆盘型
装置方式 移动式
电机功率 4
生产能力 300
转速范围 14000

纳米硅复合负极材料研磨分散机,纳米硅复合负极材料分散机,硅碳复合分散机,高剪切硅碳材料分散机,超微硅碳研磨分散机,分体式组装型分散机,新型锂电负极浆料分散机细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,应用于难分散,且对分散要求,粒径要求较高的浆料制备。                  上海依肯机械  林万翠


纳米硅复合负极材料的制备方法, 其中纳米硅/石墨复合颗粒与石墨烯的复合是采用粉体表面修饰法复合制备。本发明采用 粉体表面修饰进行复合可实现纳米娃/石墨复合颗粒与石墨稀的复合,并结合均相包覆技 术实现硅、石墨、石墨烯、导电碳的多元复合。
纳米硅复合负极材料制备方法:
1将石墨粉末与纳米硅粉在醇系介质中液相复合,得到*前驱体;2将石墨烯涂覆在所述*前驱体表面,得到第二前驱体; 3、将所述第二前驱体进行包覆改性,烧结,得到硅复合负极材料;

纳米硅复合负极材料研磨分散机,新型锂电负极浆料分散机是将胶体磨和分散机一体化的设备,先研磨后分散,先将锂电池浆料的团聚体先打开,然后再进行分散。IKN研磨分散机在国nei多家大型锂电池厂家都有着突出的应用。



CMSD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高ke技产品。

第yi级由具有经细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无线制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

适用工艺:CMSD研磨分散机适用于高经细度的分散、均质、乳化、混合、破碎、速度快、效率高、效果好。详询上海依肯 林万翠


在纳米研磨分散机运作的过程中,转轴以及转轴上各个零部件都是处于高速运转的状态,研磨定转子部分会带动研磨介质与物料产生强烈的碰擦与撞击,以起到磨细物料和分散聚体的作用。同时,物料经过研磨后,通过泵叶的巨大吸力,使其被吸出研磨篮,然后再由分散盘对其进行分散处理,这样就可以在很短的时间内获得理想的研磨效果。


ikn研磨分散机为通用混合、分散、研磨的设备,经过混合、分散、研磨后的物料能够保持在容器内均匀分散,zui终保持物品的质量一致,不会因为物料分布不均匀造成产品质量问题。可以在360度进行回转,采用无级变速,ikn研磨分散机的外表美观,升降系统平稳灵活,而且操作起来十分方便,结构也非常的牢固、耐用。分散机的品种十分齐全,可以满足用户各种不同的生产需求。液压升降型特别适用于大功率的研磨和细化,升降起来平稳,结构十分牢固,并且使用寿用长。研磨分散机能够根据工艺的要求,选择防爆型或者普通型。分散机架体采用碳钢刷的色漆,也可定制成不锈钢表面的抛光。

CMSD 2000系列新型硅碳锂电浆料研磨分散机设备选型表

型号

流量

L/H

转速

rpm


线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMSD 2000/4

300

14000


41

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500


41

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200


41

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900


41

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850


41

90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100


41

160

DN200/DN150

 

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%



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