型号 | CMSD |
搅拌机类型 | 多功能搅拌机 |
物料类型 | 固-液 |
适用物料 | 其他 |
动力类型 | 电动 |
布局形式 | 立式 |
搅拌方式 | 强制式搅拌 |
每次处理量范围 | 出料300-500L |
应用领域 | 化工 |
作业方式 | 循环作业式 |
搅拌鼓形状 | 圆盘型 |
装置方式 | 移动式 |
电机功率 | 4 |
生产能力 | 300 |
转速范围 | 14000 |
纳米硅复合负极材料研磨分散机,纳米硅复合负极材料分散机,硅碳复合分散机,高剪切硅碳材料分散机,超微硅碳研磨分散机,分体式组装型分散机,新型锂电负极浆料分散机细化作用一般来说要强于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,应用于难分散,且对分散要求,粒径要求较高的浆料制备。 上海依肯机械 林万翠
纳米硅复合负极材料的制备方法, 其中纳米硅/石墨复合颗粒与石墨烯的复合是采用粉体表面修饰法复合制备。本发明采用 粉体表面修饰进行复合可实现纳米娃/石墨复合颗粒与石墨稀的复合,并结合均相包覆技 术实现硅、石墨、石墨烯、导电碳的多元复合。
纳米硅复合负极材料制备方法:
1将石墨粉末与纳米硅粉在醇系介质中液相复合,得到*前驱体;2将石墨烯涂覆在所述*前驱体表面,得到第二前驱体; 3、将所述第二前驱体进行包覆改性,烧结,得到硅复合负极材料;
纳米硅复合负极材料研磨分散机,新型锂电负极浆料分散机是将胶体磨和分散机一体化的设备,先研磨后分散,先将锂电池浆料的团聚体先打开,然后再进行分散。IKN研磨分散机在国nei多家大型锂电池厂家都有着突出的应用。
CMSD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高ke技产品。
第yi级由具有经细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无线制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
适用工艺:CMSD研磨分散机适用于高经细度的分散、均质、乳化、混合、破碎、速度快、效率高、效果好。详询上海依肯 林万翠
在纳米研磨分散机运作的过程中,转轴以及转轴上各个零部件都是处于高速运转的状态,研磨定转子部分会带动研磨介质与物料产生强烈的碰擦与撞击,以起到磨细物料和分散聚体的作用。同时,物料经过研磨后,通过泵叶的巨大吸力,使其被吸出研磨篮,然后再由分散盘对其进行分散处理,这样就可以在很短的时间内获得理想的研磨效果。
ikn研磨分散机为通用混合、分散、研磨的设备,经过混合、分散、研磨后的物料能够保持在容器内均匀分散,zui终保持物品的质量一致,不会因为物料分布不均匀造成产品质量问题。可以在360度进行回转,采用无级变速,ikn研磨分散机的外表美观,升降系统平稳灵活,而且操作起来十分方便,结构也非常的牢固、耐用。分散机的品种十分齐全,可以满足用户各种不同的生产需求。液压升降型特别适用于大功率的研磨和细化,升降起来平稳,结构十分牢固,并且使用寿用长。研磨分散机能够根据工艺的要求,选择防爆型或者普通型。分散机架体采用碳钢刷的色漆,也可定制成不锈钢表面的抛光。
CMSD 2000系列新型硅碳锂电浆料研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN | |
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | |
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | |
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | |
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | |
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | |
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%
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