雾化石墨乳研磨分散机  招商

雾化石墨乳研磨分散机，粒度可控石墨乳分散机，溶剂型石墨乳研磨分散机，显像管用石墨乳研磨分散机，小粒径石墨乳研磨分散机，石墨乳改进型高速胶体磨ikn循环式作业方式的研磨分散机是一款改进型胶体磨，特别适合新材料的研究制备，目前已成功应用于硅硼浆、石墨烯、石墨烯改性材料、碳纳米管、光伏材料、光催化研究，军工研究等多项科研和生产中。

石墨乳的主要成分是石墨粉(微粉石墨)，因其呈乳状状态，所以常被称作石墨乳，根据石墨粉的导电、润滑、防腐、耐高温等特点生产的系列石墨乳可广泛用于导电、电磁屏蔽、抗静电、锻造、润滑、防腐、密封、丝网印刷线路、彩色显示器件制造等领域，起到导电、抗静电、防腐、润滑、密封、屏蔽等作用。

在铸造领域中，石墨乳用于金属锻造的脱模剂，如钢锻件、铜锻件、合金锻件、铝锻件的脱模剂。石墨乳通过喷涂装置进行雾化，喷涂在模具的铸造型腔内。

石墨乳粒径越小，越有利于石墨乳的雾化以及石墨电量的提高，石墨烯研磨分散机

从设备角度分析，影响研磨效果的因素：

1 磨头的形式（卧式和立式）

2 磨头的剪切速率

3 磨头的齿形结构（见磨头结构）

4 物料在磨头墙体的停留时间，乳化分散时间

5 循环次数

研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

由上可知，研磨速率取决于以下因素：

–  磨头的线速率

–  在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 （相对而言）

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

一般而言，研磨时间越长，则研磨效果越好，但物料颗粒的细化达到一定程度则很难再进一步细化。因为随着颗粒粒度的减小，比表面积迅速增大，颗粒表面激活点增多，表面自由能增大，体系处于ji不稳定状态，微细颗粒间则彼此团聚形成“假颗粒”，以降低比表面积。在普通的高速搅拌机、高速分散机、胶体磨等的制备下易使原料细化不chong分，同时由于机械作用力小，易使其团聚，而影响后续使用及产品质量。

上海依肯将分散机与胶体磨进行改进，研发出了一款研磨分散机，在设备工作腔体第yi级高经度研磨头处能够chong分细化物料粒度，同时细化后的物料紧接着进入第二级定转子间隙ji为狭小的分散头中进行高速剪切分散离心运动，从而得到稳定性高的分散系，除了设备结构上的改进以外，更是在设备的转速上有了一个质的飞跃，打破国nei3000转的ji限，直接将转速提升至14000转的超高转速，作用效果更好。

IKN研磨分散机是胶体磨和分散机的一体化设计，相对于胶体磨和分散机的串联而言更具优势。胶体磨与分散机串联的话存在时间差，当物料通过胶体磨之后，磨细后物料会出现抱团的现象，再经过分散机分散，效果不是很好。而CMSD超细研磨分散机的话，物料磨细后，瞬间又通过分散工作组，进行分散，在物料还未抱团之前，就进行了分散，一个瞬间作用，效果会好很多。

CMSD 2000系列雾化石墨乳研磨分散机设备选型表

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%

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