小粒径混悬液高速胶体磨  招商

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混悬液型药剂一般系指不溶性药物颗粒分散在液体分散媒内所形成的不均勻分散系的液体药剂。对混悬剂的要求是混悬的微粒应细微均勻、其速度不影响剂量的正确量取；稍加振摇即能均勻分散；在长期贮存中粒子大小保持不变；易倾倒；外形美观，味道可口并具有一定的防腐能力；外用混悬剂应易于涂布，不易流散，能快速干燥，干后能形成不易擦掉的保护膜。混悬剂的微粒一般在1 μ m以上，混悬剂在医疗上应用较广，在口服、外用、注射、滴眼、气雾以及长效等剂型中都有应用。

为了增加混悬剂的物理稳定性，常采用高速胶体磨减小药物粒径，以及在制备时需加入能使混悬剂稳定的附加剂。

 IKN混悬液型药剂高速胶体磨与国nei胶体磨区别：

1，

结构设计：国nei胶体磨结构设计采用仍为卧式设计或者是目前流行的分体式设计

上海IKN设备结构设计采用的事目前zui流行的分体结构

2，

zui大线速度：国nei胶体磨设备能达到的zui大线速度大约在10-15M/S

                     在相同直径磨头下，上海IKN设备线速度可达

V= 3.14X0.055X7890/60=23 M/S

V=3.14X0.055X13789/60=40 M/S

3，

zui大作用力：国nei胶体磨作用力大约在14293-215440 S-1

上海IKN设备的作用力为F=23/0.7X1000=32857 S-1 

F=40/0.7/X1000=57142 S-1

而对CMO模块头，磨头的间歇G理论可以无线小，但是由于高速的运转，造成轴的振动，需要一定的间歇，作用力可以无线大，但实际上比胶体磨要好。这是粉碎研磨的zhong要因素，相当于国nei胶体磨的2-3倍。

4，

转速：国nei胶体磨50HZ时转速一般为3000rpm

上海IKN设备在50HZ时设备转速高达7890/13789RPM ，可以通过变频调速，同时可通过皮带加速 依肯的轴承可以承受140000RPM(转速是他们的3-4倍，研磨的力度也是国nei胶体磨的3-4倍，这样研磨的细度更小)。

CMSD 2000系列药剂混悬剂胶体磨设备选型表

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的te性，可以被调节到zui大允许量的10%

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