纳米材料高剪切分散机  招商

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　纳米光触媒是指在光照下，自身不发生化学变化，却可以促进化学反应的物质，其功能就象光合作用中的叶绿素。世界上能作为光触媒的材料众多，包括二氧化钛(TiO2)、氧化锌(ZnO)、氧化锡(SnO2)、二氧化锆(ZrO2)、硫化镉(CdS)等多种氧化物硫化物半导体。

　　纳米级材料的粒径很小,表面能高,很容易发生团聚,形成二次粒子,无法表现出其受人青睐的表面积效应、体积效应及量子尺寸效应等·材料团聚已经给材料技术及相关工业领域带来了很大的麻烦,是其应用中shou要解决的问题·

　　Ikn公司推出的CMXD2000系列分散机，其转速高达20000转，剪切速率达到66m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强，乳液的粒经分布更窄。

　　研磨分散机工作原理:研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

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　　研磨分散机的细化作用一般来说要强于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。

　　研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。

　　*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

　　第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

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　　CMXD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

IKN研磨分散机特点：

1、胶体磨+分散机二合一设计：粉碎室设有三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。

  2、间隙可调，研磨缝隙调节可以改变适用于特定工艺

3、设备运转速度高达14000转，是国nei普通分散机的4-5倍，gao效细化分散研磨物料

4、机身腔体采用三层夹套设计可以冷却也可以加热

5、采用德国双端面机械密封，在保证有冷却水的情况下，可以24小时连续不间断工作

6、从实验室设备平稳过渡到中试型实验以及后期的工业化放大实验，无需重新调整实验数据，ji大程度降低了风险

　　设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级

　　电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、

　　电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

　　电机选配件: PTC 热保护、降噪型

　　研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷

　　研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车

　　研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理

　　进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍

　　研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度，稠度和zui终产品的要求。

3 如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。

4 本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准。

5 本系列机型具有短程送料能力，无自吸功能，须选用高位进料；物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料，输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。

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