纳米粉体分散机分散技术，纳米粉体分散方法  招商

　纳米粉体分散机分散技术，纳米粉体分散方法，突破传统的新式分散机，管线式高速分散机，立式高剪切均质分散机，不团聚纳米粉体分散机，物理机械法纳米粉体分散机，高转速立式分散机，IKN(上海）14000转分散机是一种全新的分散技术路线，“胶体磨与分散机的二合一组合”实现了纳米粉体的快速分散以及改性，提供小试到中试到工业化同等配置设备。

纳米粉体颗粒在制备、分离、处理过程中相互连接、由多个颗粒形成较大的颗粒团簇的现象。由于团聚颗粒粒度小，表面原子比例大，比表面积大，表面能大，处于能量不稳定状态，因而细微的颗粒都趋向于聚集在一起，很容易团聚，形成团聚状的二次颗粒，乃至三次颗粒，使粒子粒径变大，在每个颗粒内部有细小孔隙。纳米颗粒的团聚一般分为两种:软团聚和硬团聚。

　　机械分散常被认为是zui简单的物理分散方法，它是借助外界剪切力或撞击力能使纳米粒子在介质中分散的一中方法。在机械搅拌下纳米粒子的特殊表面结构容易产生化学反应，形成有机化合物枝链或保护层，使得纳米粒子更易分散。普通国产分散机转速只有3000转，剪切力比较弱，分散后的粒径无法达到生产的标准，这也是很多客户头痛的地方。纳米抗菌材料分散机是专为纳米粉体颗粒研制的一款高转速（14000prm）高剪切分散机，特殊的分体式结构，316L不锈钢定转子产生的强大剪切力，物料之间的踹流、撕裂作用力能够使颗粒高度分散，ji大提高了提取效率。

随着纳米粉体分散的进一步发展，上海IKN研发出zui新的分散设备-三级分散机。结构为三组分散头定转子，并且转速高达14000rpm，定转子经密度高，分散效率快，分散效果好。
IKN研磨分散机在纳米粉体的分散中有着突出的应用和优势，如纳米氢氧化镁、纳米氢氧化铝、石墨烯、碳纳米管、二氧化硅、纳米树脂、纳米涂料、医药纳米混悬液等都有着成功的经验和案例。

纳米粉体分散机分散技术，纳米粉体分散方法，IKN(上海）14000转分散机是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质分散机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在分散头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。磨头下面的胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种分散头供客户选择）。

第yi级由具有经细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无线制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

适用工艺：CMSD研磨分散机适用于高经细度的分散、均质、乳化、混合、破碎、速度快、效率高、效果好。详询上海依肯 林万翠

IKN研磨分散机是一款集研磨和分散一体化的设备，是一项新的技术革新。研磨分散机是将胶体磨（锥体磨）+高剪切分散机一体化的设备，先研磨后分散，物料研磨后又瞬间进行分散，避免了物料的二次团聚。

上海IKN纳米研磨分散机的优势：

1、胶体磨+分散机二合一设计：粉碎室设有三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。

  2、间隙可调，研磨缝隙调节可以改变适用于特定工艺

3、设备运转速度高达14000转，是国nei普通分散机的4-5倍，gao效细化分散研磨物料

4、机身腔体采用三层夹套设计可以冷却也可以加热

5、采用德国双端面机械密封，在保证有冷却水的情况下，可以24小时连续不间断工作

6、从实验室设备平稳过渡到中试型实验以及后期的工业化放大实验，无需重新调整实验数据，ji大程度降低了风险

IKN超高速分散机与同lei设备的对比：

1、发热问题。

同lei设备在加工过程中，高粘物料进入腔体后，因背压力大而输送效果差，导致物料在设备腔体中停留时间过长而导致严重发热。CMD2000系列分散设备在确bao效果的基础上，减小了背压阻力，提高了输送能力，减少了停留时间，降低了物料发热的状况。

2、多层多向剪切分散。

同lei设备定、转子等部件结构单一，多级多层的结构只是单纯的重复性加工，相同的齿槽结构易发生物料未经分散便通过工作腔的短路现象。CMD2000系列高速分散机定、转子结构采用多层多向剪切的概念，装配式结构使物料得到不同方向的剪切分散，杜jue短路现象，超细分散更加彻底。

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