型号 | CMSD |
搅拌机类型 | 强力搅拌机 |
物料类型 | 固-液 |
适用物料 | 药品 |
动力类型 | 电动 |
布局形式 | 立式 |
搅拌方式 | 强制式搅拌 |
每次处理量范围 | 出料300-500L |
应用领域 | 医药 |
作业方式 | 循环作业式 |
搅拌鼓形状 | 圆盘型 |
装置方式 | 移动式 |
电机功率 | 5.5 |
生产能力 | 500 |
转速范围 | 0-14000 |
阿莫西林混悬注射液研磨均质机,阿莫西林与丙磺舒复方混悬注射液研磨均质机,甲磺酸达氟沙星-阿莫西林混悬注射液研磨均质机,阿莫西林克拉维酸钾注射液研磨均质机,阿莫西林复合混悬液研磨均质机是 由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过研磨均质机定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
如制备方法为:先将注射用油酯和助悬剂加热搅拌制成凝胶,然后加入甲磺酸达氟沙星和阿莫西林原料药微粉、抗氧化剂、乳化剂,经高速分散机、研磨均质机分散均质,制备成混悬剂。
在其中经过高速分散机 研磨均质机 分散均质的目的是把颗粒粉碎更小
当用我们的设备好处是什么?效果好(研磨效果、均质效果、分散效果、乳化效果……),速度快,效率高。每一台设备都具有多功能改装,根据不同的要求更换不同的模块。还有什么???那就是能耗低,据用过依肯的设备客户反应,就电费就能省下不少。如何去选择一台合适的设备,一定会做一个明智的选择!
影响分散均质结果的因素有以下几点
1 均质头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)
2 均质头的剪切速率 (越大,效果越好)
3 均质头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
4 物料在分散墙体的停留时间,均质分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)
线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知,剪切速率取决于以下因素:
– 转子的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60
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IKN纳米研磨均质机与国内研磨均质机的性能比较:
一、转速和剪切速率:IKN纳米研磨均质机,可选择德国机械密封,转速可以达到15000转F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1国内研磨均质机,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440S-1通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于前者是后者的2-3倍
二、研磨均质机头和间距:IKN纳米研磨均质机,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,CM胶体模块,CMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块。间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工国内研磨均质机,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差
三、机械密封:IKN纳米研磨均质机,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至最低,可24小时不停运转国内研磨均质机,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁
IKN混悬注射液研磨均质机的技术参数:
研磨均质机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMD 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
CMD 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
CMD 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。 |
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。
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