型号 | CMD |
搅拌机类型 | 强力搅拌机 |
物料类型 | 固-液 |
适用物料 | 其他 |
动力类型 | 电动 |
布局形式 | 立式 |
搅拌方式 | 强制式搅拌 |
每次处理量范围 | 出料50-250L |
应用领域 | 能源 |
作业方式 | 循环作业式 |
搅拌鼓形状 | 圆盘型 |
装置方式 | 移动式 |
电机功率 | 4 |
生产能力 | 700 |
转速范围 | 0-14000 |
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导电浆料由于其广泛的适用性而大量用于电子产品导电线路的制作,尤其是在薄膜类软材质上。随着智能化电子产品应用范围越来越广,对导电线路的精细度要求越来越高。传统的导电浆料通过丝网印刷的方式可获得线宽> 80 μ m的导电线路,但无法满足更高精细度的线路制作要求。
低温固化感光导电浆料原料制成:感光型树脂聚合物,光聚合引发剂,导电颗粒填充剂,深度固化交联剂等;
可以通过分散机、三辊机、球磨机、捏合机、行星搅拌机等设备进行物料的混合分散。
IKN研磨分散机综合了均质机、球磨机、三辊机、剪切机、搅拌机等机械的多种性能,具有优越的超微粉碎、分散乳化、均质、混合等功效。物料通过加工后,粒度达0.2~50微米,均质度达90%以上,是超微粒加工的理想设备。该机适用于制药、食品、化工及其他行业的湿物料超微粉碎,能起到ge种半湿体及乳状液物质的粉碎、乳化、均质和混合,主要技术指标已达到国外同lei产品的先jin水平。
从设备角度分析,影响分散结果的因素有以下几点:
1 分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)
2 分散头的剪切速率 (越大,效果越好)
3 分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
4 物料在分散腔体的停留时间,分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)
低温固化感光导电浆料研磨分散机 纳米级是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质分散机进行改装,我们将三级变跟为一级,然后在分散头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。磨头下面的胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种分散头供客户选择)。
Ikn研磨分散机设备结构:
第yi级由具有精细度递升的三层锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
CMSD 2000系列研磨分散机设备选型表
型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN | ||
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到zui大允许量的10%
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