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混悬液高剪切胶体磨,在线均质混悬液胶体磨  招商

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产品说明
处理能力 300
配用功率 4
粉碎程度 超微粉碎
原理 高速万能粉碎机
适用物料 通用
应用领域 化工

混悬液高剪切胶体磨,在线均质混悬液胶体磨,医药混悬液胶体磨

混悬液是从乳剂发展而来的,使用均质器高速剪切分散于水中,形成的乳剂,由于物理稳定性不好,用到较多的有机溶剂用,制造成本偏高,毒性相对较大,给食品安全带来诸多隐患,因此也先制了它的应用。随着制药技术的进步,人们通过实验发名了混悬液替代了部分乳液。

 

溶剂将其润湿,利用表面活性剂的分散特性、增稠剂的助悬作用,在加上上海依肯高剪切分散乳化均质机的物理粉碎,高频剪切,高速离心分散作用,将它以微纳米级的颗粒状态均匀的分散于液相中。由于高剪切均质机的粉碎、剪切作用,使得物料粒径大多在10微米以下,也有至纳米级别(具体情况请接洽上海依肯林万翠)。粒径越小,表面积越大,药物被吸收的速度也更快,从而提高了药物的生物利用度,也降低了生产成本。上海依肯设备具有高剪切速率、高经度定转子结构、以及能够获得稳定均一的分散效果,我司在医药制剂的制备上有着大量的成功案例!详询上海依肯 林万翠


混悬液高剪切胶体磨,在线均质混悬液胶体磨,医药混悬液胶体磨

 

1、头孢类混悬液,采用CMD2000系列高剪切胶体磨,处理30min,粒径可达5μm;

2、疫苗及脂肪乳乳化,采用IKN胶体磨,乳液粒径可达300nm;

3、阿苯达唑混悬液,采用CMD2000胶体磨,14000rpm,粒径可达10μm;

4、口服液,采用IKN胶体磨,14000rpm,20min,粒径可达3μm;

当然还有其他方面的应用,以及具体工艺得出的结果不一定相同,供参考!


ikn胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

三级错齿结构的研磨转子,配合经密的定子腔。此款立式研磨分散机比普通的研磨分散机的速度达到3倍以上,的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

ikn胶体磨的优点:

1、 可以在较短时间内对颗粒、聚合体或悬浮液等进行粉碎、分散、均匀混合、浮化处理。处理后的产品粒径可达几微米至1微米以下。

2、 研磨腔体间定转子间隙可调(zui小可达1um以下)因此容易控制产品粒度。

3、 机构简单,操作维护方便,占地面积小。

4、 由于固定磨体和高度旋转磨体的间隙极小,因此加工精度高。


设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件: PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质:SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理:抛光、耐磨处理
进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器

高速胶体磨

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


CMD 2000/4

700

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

8000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

80000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到最大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度,稠度和最终产品的要求。

3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。

4 本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。

5 本系列机型具有短程送料能力,无自吸功能,须选用高位进料;物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时,须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。


混悬液高剪切胶体磨,在线均质混悬液胶体磨,医药混悬液胶体磨

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