研磨设备和研磨分散设备的区别  招商

研磨设备和研磨分散设备的区别 纳米研磨机 纳米分散机

IKN湿法纳米研磨机可直接结合到物*成过程中。这使得湿磨过程与其他过程同时进行，从而能够删除后续工步。除了节省时间以外，需要的系统数量和接触产品的表面尺寸可大幅减少。管线式湿磨机非常适合于CIP或者SIP清洁。湿磨机的好处使其成为具有吸引力的投资产品。 

用转子-定子装置湿磨物质具有诸多好处：
· 研磨得到的细颗粒被直接融合到悬浮液中，因而从开始就避免了灰尘的形成。
· 与干磨系统不同，被研磨的物质保持在系统内，从而大幅减少了损失。因此，湿磨非常适合有机化学品，尤其是优质物质，或者有毒物质的研磨。
· 相对干磨过程而言，湿磨的产品进料和计量较容易。 上海依肯机械  林

为了定制过程，IKN根据众多客户需求，提供下列实验室及生产用解决方案：
· 三级高剪切分散机ER湿磨
· 胶体磨CM湿磨
· 锥体磨CMO湿磨
· CMD2000湿法粉碎机
该机型采用卫生级不锈钢材质，经工制作，在保证湿法超细粉碎效果的基础上，zui大程度确bao了设备的稳定性。

湿法纳米研磨机 常用于以下用途：
☆食品纤维类物料的湿法超细破碎与均质
☆动物和植物组织的超细破碎及浆化加工
☆溶液中颗粒及脂肪球等超细破碎与均质
☆ 可溶物(或互溶物)固体和液体加速溶解
☆ 不相溶的固-液相悬浮物超细混合分散
☆纳米材料团聚物的强力解聚与超细分散

CM2000型胶体磨为单磨头研磨结构，更倾向于对硬性物料的研磨，而ERS2000型设备为三级定转子结构，更倾向于对已研磨细的物料进行分散，而CMD2000型设备为CM胶体磨与ERS分散机组合而成的二级研磨分散结构，CMD2000型的设备缩短了CM2000型与ERS型串联的管道距离，这样就可以使物料在经过CMD2000型设备的一级结构胶体磨经细研磨后瞬间通过二级结构的分散盘超高速分散，这样就可以在经细研磨后的物料还未来得及抱团返粗的时候就将物料进行超高速分散（如用管道对CM2000型设备与ERS2000型设备串联，就加长了物料在管道的停留时间，特别容易抱团返粗），完全分散到相应的溶剂中，这样可以使物料打的更细分散的更好               上海依肯机械  林

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