| 处理能力 | 700 |
| 配用功率 | 4 |
| 粉碎程度 | 超微粉碎 |
| 原理 | 高速万能粉碎机 |
| 适用物料 | 通用 |
| 应用领域 | 化工 |
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胶体磨使材料受到强大的剪切力、摩擦力和高频振动。有效粉碎、乳化、均质、温合，得到满意的精细加工产品。
胶体磨在高速下经受不同几何形状的定子和转子的相对运动。在自重、压力和离心力的作用下，加工后的材料受到强剪切力、摩擦力、冲击力、高频振动等的影响完成研磨。通过自重、压力和离心力的作用，有效地分散和破碎物料，经过粉碎，乳化，混合得到理想的产品。它是基于研磨盘斜面的相对运动，定子固定不动，转子在电机的带动下高速旋转，使物料在定子和转子之间受到强力的剪切摩擦，并进行有效的研磨、乳化、粉碎、分散。材料在高频振动和高速惠而浦作用下的均匀化。获得了超细微粒粉碎的效果。胶体磨的基本原理是，通过高速和相对连续的运动，流体或半流体材料位于固定齿和活动齿之间，从而使材料受到强大的剪切力、摩擦力和高频振动，在有效粉碎、乳化、均质后，取得满意的加工效果。精细加工产品。胶体磨是剪切、磨削和高速搅拌于一体的设备。磨削取决于两个齿面的相对运动，其中一个是高速旋转而另一个是静止的，从而使材料通过齿面受到很大的剪切力和摩擦力。同时，该材料在高频振动和高速涡流作用下有效分散、漂浮、粉碎、均匀化。
在实际应用中，胶体磨不仅局限于“胶体”类材料的加工，而且可用于各种流体、半流体、乳膏、甚至具有一定湿度或油性的固体软材料的研磨、分散、乳化和均质。胶体磨广泛应用于现代工业生产中。精细材料bi备设备。胶体磨用于破碎、乳化、均质和混合流体或半流体材料，以获得满意的精细加工产品。胶体磨是一种离心乳化设备。它的通用性很强。它广泛应用于食品、医药、生物、化工等领域。该设备可处理高粘度和大颗粒物料，因此在高压均质机的前处理过程中有许多场合使用。当固体材料较多时，通常采用胶体磨进行精炼。胶体磨主要由磨头部分、底座传动部分和专用电机组成。机器zui重要的部分是机芯的运动部件和静盘和机械密封的组合部件。因此，根据被加工材料的性质，选择必须不同的胶体磨。
目前国内大多数厂家采用guo产胶体磨进行固液混合浆料研磨粒径，提取率较低，工作时间长，生产效率低，颗粒还比较大。因为本身国nei胶体磨的设备比较落后，转速一般都为3000rpm，并且磨头加工比较粗糙。导致研磨能力低，一般用于物料的粗磨。而上海IKN采用德国技术，引进德国核心部件，IKN高剪切胶体磨转速高达14000rpm，是guo产的4-5倍，加上精密的磨头，效果好，效率高。另外IKN在德国技术的基础上又研发出改良型胶体磨，研磨效果会更好。
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从设备角度分析，影响研磨效果的因素：
1 磨头的形式（卧式和立式）
2 磨头的剪切速率
3 磨头的齿形结构（见磨头结构）
4 物料在磨头墙体的停留时间，乳化分散时间
5 循环次数
研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
由上可知，研磨速率取决于以下因素：
– 磨头的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 （相对而言）
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
IKN高速纳米胶体磨是一种对液体状物料或加有液体的物料的循环粉碎研磨装置及对该物料进行循环粉碎研磨的方法。
上海依肯CM2000系列的特点：
①定转子被制成圆椎形，具有经细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无线制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
②齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。
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