立式纳米研磨机  招商

立式纳米研磨机，德国IKN改进型研磨机，高分散型研磨机，管线式研磨机，依肯研磨分散机，小型工业化研磨机，高速研磨机。立式研磨机是超细粉体制备中非常重要的设备，具有能量利用率高、产品粒度细、研磨机理优越、设备结构简单等优点，因此是当前zui具有发展前途的超细粉碎设备之一。

目前常用的立式盘式研磨机一般包括筒体、转轴、磨盘、进出料口等部件，其进料采用底部进料的方式，为了进料时避免介质球跑出，需要一套压力控制系统来保证既可以进料又可以阻止介质球跑出，而且压力控制系统是易损部件，经常需要维修。磨盘结构从zui初的圆盘状结构，改进为四爪形非圆盘状磨盘，等间距的套装在转轴上，且所有磨盘在空间上平行分布，也就是所有磨盘的正投影重合。现有结构的立式盘式研磨机结构复杂、研磨效果不好，而且研磨后的出料颗粒不均匀，往往含有大颗粒。

立式纳米研磨机，德国IKN改进型研磨机由胶体磨,乳化分散机组合而成的高科技产品。

    第yi级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

     第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。

立式纳米研磨机，德国IKN改进型研磨机就是高效、快速、均匀地将一个相或多个相固体进入到另一互不相溶的连续相（通常液体）的过程的设备。而在通常情 况下各个相是互不相溶的。当外部能量输入时，两种物料重组成为均一相。中试型研磨分散机机由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能，中试型研磨分散机使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用，形成悬浮液（固/液），从而使不相溶的固相、液相在相应成熟工艺和适量添加剂的共同作用下，瞬间均匀精细的分散乳化，经过中试型研磨分散机高频的循环往复，最终得到稳定的高品质产品。

特点：

1、胶体磨+分散机二合一设计：粉碎室设有三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。

  2、间隙可调，研磨缝隙调节可以改变适用于特定工艺

3、设备运转速度高达14000转，是国nei普通分散机的4-5倍，gao效细化分散研磨物料

4、机身腔体采用三层夹套设计可以冷却也可以加热

5、采用德国双端面机械密封，在保证有冷却水的情况下，可以24小时连续不间断工作

6、从实验室设备平稳过渡到中试型实验以及后期的工业化放大实验，无需重新调整实验数据，ji大程度降低了风险

从设备角度分析，影响研磨效果的因素：

1 磨头的形式（卧式和立式）

2 磨头的剪切速率

3 磨头的齿形结构（见磨头结构）

4 物料在磨头墙体的停留时间，乳化分散时间

5 循环次数

研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

由上可知，研磨速率取决于以下因素：

–  磨头的线速率

–  在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 （相对而言）

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

IKN设备的作用力为F=23/0.7X1000=32857 S-1 

F=40/0.7/X1000=57142 S-1

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